作者：劉松利,楊紹利
作者單位：攀枝花學(xué)院材料工程學(xué)院
會議錄名稱：中國金屬學(xué)會2008年非高爐煉鐵年會
出版年：2008-10-01
起頁：87-95
止頁：
總頁數(shù)：9
館藏號：
分類號：TF55
語種：中文
會議名稱：中國金屬學(xué)會2008年非高爐煉鐵年會
會議地點：中國吉林延吉
會議時間：2008-10-01
會議主辦者：中國金屬學(xué)會
關(guān)鍵詞：直接還原技術(shù);DRI;轉(zhuǎn)底爐;發(fā)展趨勢;
內(nèi)容簡介對氣基直接還原和煤基直接還原中的各工藝進(jìn)行了系統(tǒng)地介紹和客觀地分析,指出了各工藝的特色和優(yōu)點。表明發(fā)展 DRI 技術(shù)將有較大的市場需求。轉(zhuǎn)底爐規(guī)模化生產(chǎn)尚未到達(dá)成熟的階段,但具有良好的發(fā)展前景。
所需耐材幣：0
