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Substrate-dependant ability of titanium(IV) oxide photocatalytic thin films prepared by thermal CVD to generate hydrogen gas from a sacrificial reaction

作者:Hyett, G.;Darr, J.A.;Mills, A.;Parkin, I.P.;

作者單位:Christopher Ingold Laboratory, University College London, 20 Gordon Street, London WC1H 0AJ, United Kingdom;Christopher Ingold Laboratory, University College London, 20 Gordon Street, London WC1H 0AJ, United Kingdom;Department of Pure and Applied Chemistr

刊名:Chemical vapor deposition

ISSN:0948-1907

出版年:2010-01-05

卷:16

期:41194

起頁:301

止頁:304

分類號(hào):TQ175

語種:英文

關(guān)鍵詞:

內(nèi)容簡介

We report the observation of hydrogen production from photodiodes, when irradiated with UV light. These photodiodes were composed of a stainless steel substrate, with a TiO_2 photocatalyst deposited suing APCVD on one side and Pt deposited using sputter coating on the other. In contrast similar devices made using a titanium substrate show no measurable H_2 production.

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